•
Если человек ощущает свое участие в жизни общества, он создает не только материальные ценности для людей - он создает и самого себя. Из работы, в которой ярко выражен дух гражданственности, начинается истинное самовоспитание.
Афоризмы
•
Поистине, подобно солнцу, люблю я жизнь и все глубокие моря. И вот что называю я познанием: чтобы все глубокое поднялось на высоту мою!
Афоризмы
•
- «Оставайтесь голодными. Оставайтесь безрассудными». И я всегда желал себе этого. И теперь, когда вы заканчиваете институт и начинаете заново, я желаю этого вам.
Афоризмы
•
Воспитание личности - это воспитание такого стойкого морального начала, благодаря которому человек сам становится источником благотворного влияния на других, сам воспитывается и в процессе самовоспитания еще более утверждает в себе собственное моральное начало.
Афоризмы
Сегодня
• Кто много знает, с того много и спрашивается.
• Не учись до старости, а учись до смерти.
• Без терпенья нет ученья.
• Знание лучше богатства.
• Учи показом, а не рассказом.
• Не для знания, а для экзамена.
• Знание — сила.
• Без муки нет и науки.
• Всему учен, только не изловчен.
• Велико ли перо, а большие книги пишет.
• Перо пишет, а ум водит.
• Не бойся, когда не знаешь: страшно, когда знать не хочется.
• Учение — путь к умению.
• Много ученых, мало смышленных.
• Наука учит только умного.
• Учи других — и сам поймешь.
• На все руки, кроме науки.
• Наукой люди кормятся.
• Писать — не языком чесать.
• От учителя наука.
• И медведя плясать учат.
• Не пером пишут — умом.
• Мудрым ни кто не родился, а научился.
• Корень учения горек, да плод его сладок.
Меню
Наши новости
Учебник CSS
Невозможно отучить людей изучать самые ненужные предметы.
Некоторое время назад крупнейший в Китае контрактный производитель полупроводников компания SMIC начал строить линию для выпуска 7-нм чипов. Увы, расчёт на западных партнёров провалился. В марте нидерландская компания ASML поставила SMIC партию обычных 193-нм сканеров, но сканеры диапазона EUV до Китая не дошли. Это означает, что себестоимость производства чипов с использованием 7-нм «китайского» техпроцесса окажется дорогим удовольствием.
Информация размещенная на сайте - «hs-design.ru»
Компания SMIC разрабатывает 7-нм техпроцесс с учётом использования в производстве сканеров EUV с длиной волны 13,5 нм. Если она так и не сможет получить эти сканеры от ASML, то ей придётся выпускать 7-нм чипы с использованием 193-нм сканеров, но эта операция потребует минимум в четыре больше технологических шагов при обработке каждого слоя микросхемы, чем в случае 7-нм техпроцесса с использованием сканеров EUV (как это делают TSMC и Samsung, например).
Из-за проблем с поставками в Китай сканеров EUV техпроцесс с нормами 7 и 8 нм «не так хорош и будет готов не так скоро, как планировалось», сообщают китайские источники. «Решить можно любые технологические проблемы - практически все, кроме наличия литографического оборудования для выпуска чипов».
Как вариант, до внедрения 7-нм техпроцесса компания SMIC может внедрить на производстве улучшенные версии 14-нм техпроцесса и техпроцесс с нормами 12 нм. Для 14-нм техпроцесса компания разрабатывает улучшенные модификации «N+1» и «N+2». Техпроцесс «N+1» по сравнению с 14-нм техпроцессом сможет предложить на 20 % большую производительность и на 57 % меньшее потребление (скорее всего одно или другое), а также на 63 % снизить площадь, занимаемую логическими схемами (общая площадь SoC снизится на 55 %). Техпроцесс «N+2» позволит выпускать ещё более быстрые чипы, но пока подробности о нём отсутствуют.
Как сообщают источники, техпроцесс «N+1» изучается клиентами компании и будет готов для массового выпуска чипов в четвёртом квартале этого года. Что касается 12-нм техпроцесса, то он, по сравнению с 14-нм техпроцессом, предложит 10-процентный рост производительности и 20-процентное снижение потребления. Техпроцесс с норами 12 нм выглядит не таким прогрессивным, как «N+1», но это можно списать на то, что информация о спецификациях курсирует на уровне слухов. По мере появления подробностей будем уточнять сведения.
Некоторое время назад крупнейший в Китае контрактный производитель полупроводников компания SMIC начал строить линию для выпуска 7-нм чипов. Увы, расчёт на западных партнёров провалился. В марте нидерландская компания ASML поставила SMIC партию обычных 193-нм сканеров, но сканеры диапазона EUV до Китая не дошли. Это означает, что себестоимость производства чипов с использованием 7-нм «китайского» техпроцесса окажется дорогим удовольствием. Информация размещенная на сайте - «hs-design.ru» Компания SMIC разрабатывает 7-нм техпроцесс с учётом использования в производстве сканеров EUV с длиной волны 13,5 нм. Если она так и не сможет получить эти сканеры от ASML, то ей придётся выпускать 7-нм чипы с использованием 193-нм сканеров, но эта операция потребует минимум в четыре больше технологических шагов при обработке каждого слоя микросхемы, чем в случае 7-нм техпроцесса с использованием сканеров EUV (как это делают TSMC и Samsung, например). Из-за проблем с поставками в Китай сканеров EUV техпроцесс с нормами 7 и 8 нм «не так хорош и будет готов не так скоро, как планировалось», сообщают китайские источники. «Решить можно любые технологические проблемы - практически все, кроме наличия литографического оборудования для выпуска чипов». Как вариант, до внедрения 7-нм техпроцесса компания SMIC может внедрить на производстве улучшенные версии 14-нм техпроцесса и техпроцесс с нормами 12 нм. Для 14-нм техпроцесса компания разрабатывает улучшенные модификации «N 1» и «N 2». Техпроцесс «N 1» по сравнению с 14-нм техпроцессом сможет предложить на 20 % большую производительность и на 57 % меньшее потребление (скорее всего одно или другое), а также на 63 % снизить площадь, занимаемую логическими схемами (общая площадь SoC снизится на 55 %). Техпроцесс «N 2» позволит выпускать ещё более быстрые чипы, но пока подробности о нём отсутствуют. Как сообщают источники, техпроцесс «N 1» изучается клиентами компании и будет готов для массового выпуска чипов в четвёртом квартале этого года. Что касается 12-нм техпроцесса, то он, по сравнению с 14-нм техпроцессом, предложит 10-процентный рост производительности и 20-процентное снижение потребления. Техпроцесс с норами 12 нм выглядит не таким прогрессивным, как «N 1», но это можно списать на то, что информация о спецификациях курсирует на уровне слухов. По мере появления подробностей будем уточнять сведения.