•
Если человек ощущает свое участие в жизни общества, он создает не только материальные ценности для людей - он создает и самого себя. Из работы, в которой ярко выражен дух гражданственности, начинается истинное самовоспитание.
Афоризмы
•
Поистине, подобно солнцу, люблю я жизнь и все глубокие моря. И вот что называю я познанием: чтобы все глубокое поднялось на высоту мою!
Афоризмы
•
- «Оставайтесь голодными. Оставайтесь безрассудными». И я всегда желал себе этого. И теперь, когда вы заканчиваете институт и начинаете заново, я желаю этого вам.
Афоризмы
•
Воспитание личности - это воспитание такого стойкого морального начала, благодаря которому человек сам становится источником благотворного влияния на других, сам воспитывается и в процессе самовоспитания еще более утверждает в себе собственное моральное начало.
Афоризмы
Сегодня
• Кто много знает, с того много и спрашивается.
• Не учись до старости, а учись до смерти.
• Без терпенья нет ученья.
• Знание лучше богатства.
• Учи показом, а не рассказом.
• Не для знания, а для экзамена.
• Знание — сила.
• Без муки нет и науки.
• Всему учен, только не изловчен.
• Велико ли перо, а большие книги пишет.
• Перо пишет, а ум водит.
• Не бойся, когда не знаешь: страшно, когда знать не хочется.
• Учение — путь к умению.
• Много ученых, мало смышленных.
• Наука учит только умного.
• Учи других — и сам поймешь.
• На все руки, кроме науки.
• Наукой люди кормятся.
• Писать — не языком чесать.
• От учителя наука.
• И медведя плясать учат.
• Не пером пишут — умом.
• Мудрым ни кто не родился, а научился.
• Корень учения горек, да плод его сладок.
Меню
Наши новости
Учебник CSS
Невозможно отучить людей изучать самые ненужные предметы.
В последние дни упоминания о намерениях Intel выпустить 7-нм центральные процессоры чаще звучат в контексте неопределённости с выходом 10-нм процессоров для настольного применения. Возможно, какие-то комментарии относительно сроков перехода на 7-нм технологию мы услышим от представителей Intel на квартальном отчётном мероприятии, которое состоится на следующей неделе. Пока же уместно будет вспомнить ранние высказывания руководства Intel, согласно которым по уровню быстродействия 7-нм продукты этой марки не будут уступать изделиям конкурентов, выпускаемым по 5-нм технологии на мощностях TSMC.
Информация размещенная на сайте - «hs-design.ru»
Обсуждая на отчётных мероприятиях подготовку к переходу на 7-нм техпроцесс, представители Intel больше не скрывают, что в его рамках начнётся использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Из всех ведущих производителей полупроводниковых изделий именно Intel меньше всего говорит о специфике своего перехода на EUV-литографию, поскольку TSMC и Samsung заинтересованы в привлечении внимания к своим технологическим возможностям, а Intel обслуживает преимущественно собственные потребности.
На страницах ресурса EE Times появился содержательный материал, описывающий сроки внедрения EUV-литографии всеми тремя игроками полупроводникового рынка. TSMC уже использует до трёх слоёв, обрабатываемых при помощи EUV-литографии, при серийном производстве 7-нм продуктов второго поколения. Ко второй половине следующего года TSMC начнёт выпуск 5-нм продуктов, которые получат до 14-15 слоёв с использованием EUV-литографии. Промежуточный 6-нм техпроцесс на конвейер TSMC встанет к концу 2020 года, и он ограничится четырьмя слоями с EUV, считают эксперты Arete Research.
Samsung Electronics свою версию 7-нм технологии с применением EUV-литографии освоила в конце прошлого года, но пока все производственные квоты достаются либо самой Samsung, либо корпорации Qualcomm. В следующем году Samsung тоже может освоить 6-нм техпроцесс с применением EUV-литографии, а 5-нм технологии в исполнении южнокорейского гиганта придётся подождать до 2021 года, если верить прогнозам специалистов Arete Research.
Компания Intel, по мнению аналитиков, освоит 7-нм техпроцесс только в 2021 году, и количество обрабатываемых с помощью EUV-литографии слоёв не превысит 10 штук. Представители IC Insights напоминают, что первоначально Intel рассчитывала освоить 7-нм техпроцесс к 2017 году, но проблемы с 14-нм и 10-нм техпроцессом отбросили её достаточно далеко по сравнению с конкурентами. Эксперты Linley Group предполагают, что первые 7-нм продукты Intel не появятся ранее конца 2021 года. Если учесть, что первыми 7-нм изделиями Intel станут графический процессор и центральный процессор для серверного применения, то до потребительского сектора 7-нм технология доберётся не ранее 2022 года.
В последние дни упоминания о намерениях Intel выпустить 7-нм центральные процессоры чаще звучат в контексте неопределённости с выходом 10-нм процессоров для настольного применения. Возможно, какие-то комментарии относительно сроков перехода на 7-нм технологию мы услышим от представителей Intel на квартальном отчётном мероприятии, которое состоится на следующей неделе. Пока же уместно будет вспомнить ранние высказывания руководства Intel, согласно которым по уровню быстродействия 7-нм продукты этой марки не будут уступать изделиям конкурентов, выпускаемым по 5-нм технологии на мощностях TSMC. Информация размещенная на сайте - «hs-design.ru» Обсуждая на отчётных мероприятиях подготовку к переходу на 7-нм техпроцесс, представители Intel больше не скрывают, что в его рамках начнётся использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Из всех ведущих производителей полупроводниковых изделий именно Intel меньше всего говорит о специфике своего перехода на EUV-литографию, поскольку TSMC и Samsung заинтересованы в привлечении внимания к своим технологическим возможностям, а Intel обслуживает преимущественно собственные потребности. На страницах ресурса EE Times появился содержательный материал, описывающий сроки внедрения EUV-литографии всеми тремя игроками полупроводникового рынка. TSMC уже использует до трёх слоёв, обрабатываемых при помощи EUV-литографии, при серийном производстве 7-нм продуктов второго поколения. Ко второй половине следующего года TSMC начнёт выпуск 5-нм продуктов, которые получат до 14-15 слоёв с использованием EUV-литографии. Промежуточный 6-нм техпроцесс на конвейер TSMC встанет к концу 2020 года, и он ограничится четырьмя слоями с EUV, считают эксперты Arete Research. Samsung Electronics свою версию 7-нм технологии с применением EUV-литографии освоила в конце прошлого года, но пока все производственные квоты достаются либо самой Samsung, либо корпорации Qualcomm. В следующем году Samsung тоже может освоить 6-нм техпроцесс с применением EUV-литографии, а 5-нм технологии в исполнении южнокорейского гиганта придётся подождать до 2021 года, если верить прогнозам специалистов Arete Research. Компания Intel, по мнению аналитиков, освоит 7-нм техпроцесс только в 2021 году, и количество обрабатываемых с помощью EUV-литографии слоёв не превысит 10 штук. Представители IC Insights напоминают, что первоначально Intel рассчитывала освоить 7-нм техпроцесс к 2017 году, но проблемы с 14-нм и 10-нм техпроцессом отбросили её достаточно далеко по сравнению с конкурентами. Эксперты Linley Group предполагают, что первые 7-нм продукты Intel не появятся ранее конца 2021 года. Если учесть, что первыми 7-нм изделиями Intel станут графический процессор и центральный процессор для серверного применения, то до потребительского сектора 7-нм технология доберётся не ранее 2022 года.